三氯氢硅合成氯气要求

发表于 2009-5-19 10:48:26

我公司离子膜烧碱配套三氯氢硅，使用的是氯气泵后直接供氯合成氯化氢，但运行过程中HCl含水量过高,仅靠深冷脱水不能达到要求，请问如何改造？不想使用液氯钢瓶供氯，太麻烦。

发表于 2009-5-19 13:59:34

是氯气中含水量大，导致氯化氢含水量大吗？如果是，需想法干燥氯气。

发表于 2009-5-19 16:20:19

你先分析确认是因为氯气含水还是氢气含水高，若是增加干燥设备，若正常就在合成炉后加。

发表于 2009-5-20 08:28:45

主要是氯气中含氧高，氯气中含氧应该没有氯气除氧仪吧，可是氯化氢深冷脱水又达不到预期目的

发表于 2009-5-21 11:47:09

HCL合成后可用四氯化硅脱水

发表于 2009-5-21 17:40:43

可以考虑在合成氯化氢过后，对氯化氢进行干燥，现在国内有这样的厂家的，

发表于 2009-6-16 15:18:56

5楼可以具体点吗，可以脱到多少ppm

发表于 2009-6-16 21:01:22

纯度至少在99.9%以上吧

发表于 2009-6-18 17:53:01

我们现在用的这套设备出水后，水分含量在50ppm一下，

发表于 2009-6-20 16:59:53

可以对合成后的氯化氢脱水啊

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