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三氯氢硅合成工艺的工艺技术?

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发表于 2009-1-12 11:44:16 | 显示全部楼层 |阅读模式
大家谁对三氯氢硅合成工艺比较了解,尤其是对硅粉加料了解比较多?
[ 本帖最后由 bingyu252 于 2009-1-13 15:01 编辑 ]
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发表于 2009-1-12 20:08:46 | 显示全部楼层
三氯氢硅合成装置为筒形结构,上部筒体直径扩大部分是气固分离段,该段设有出料口,中部的直筒段是反应段,反应段外包加热器,加热器上方设有硅粉进料口,底部连接下封头,下封头上开有氯化氢进气口,下封头还开有排渣口,其筒体的反应段底部的氯化氢进气口上方设置气体分布板,气体分布板上分布有气孔,筒体内置有内换热套管,内换热套管与筒体外的热媒进管和热媒出管连通。
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发表于 2009-1-12 20:11:00 | 显示全部楼层
三氯氢硅情况简介
一、概况:
1、本品又称三氯硅烷或硅氯仿,分子式为SiHCl3,[wiki]沸点[/wiki]31.8℃,常温时为无色或微黄色的透明可燃液体,易挥发,易水解,易溶于醇、醚、卤化烃,为有机溶剂。
2、本品提纯后主要用生产半导体级[wiki]多晶硅[/wiki]和硅外延片等信息产业基础材料。但因带有氢键和含氯较多,常与其他有机官能团生成一系列的有机硅产品(如氯丙基三氯硅烷,乙烯基氯硅烷辛基氯硅烷等)。
3、由三氯氢硅生产的硅烷偶联剂具有硅化合物耐温,疏水,绝缘等特性,并能将无机分子和有机分子更好搭接,已在橡胶、塑料、[wiki]涂料[/wiki]、纺织等行业,发挥了良好作用,目前国内年生产总量已近万吨,平均年增长在15[wiki]%[/wiki]以上。
4、近年我国多晶硅年需量已近千吨,而自产还不到百吨,大量进口,故对三氯氢硅需求有很大发展空间。
5、由于半导体用硅的需求,我国在六十年代已掌握了三氯氢硅生产技术,生产出纯度很高的产品。近些年,硅烷偶联剂发展,工业用三氯氢硅的生产工艺也日渐完善,技术经济指标也大有提高,目前国内生产总能力已近年万吨。
二、生产规模及工艺。
1、生产1吨三氯氢硅将联产四氯化硅约0.3吨,目前四氯化硅国内主用于含硅防水涂料,氯相白炭黑,铸造粘结剂等。
2、从成熟、实用,仍以国内外普通使用的工业纯硅在氯化氢气流下流态氯化,再精溜提纯的工艺路线。
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发表于 2009-1-25 11:34:41 | 显示全部楼层
市场比较好的,就是投资比较大
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发表于 2009-2-8 14:26:23 | 显示全部楼层
三氯氢硅的投资应该讲投资是不大的,这也是近2年上的多得原因
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发表于 2009-3-15 20:10:37 | 显示全部楼层
目前加硅粉有几种方法,用气体送硅粉如N2或HCL还有机械进料方法,不知朋友想知道什么方法?
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发表于 2009-3-21 01:10:31 | 显示全部楼层
硅粉加料前是一定要经过干燥的吧。我觉得还是用氮气吹进去比较好吧。楼上说的HCl也是工业上用的吗?另外往合成炉内加硅粉是连续的还是间歇的啊?这点我一直没搞清楚!
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发表于 2009-3-21 23:18:17 | 显示全部楼层
我知道的大部分是间隙加料,不过我认为连续匀速加料会更好,反应温度波动不大,对控制粗品的浓度有好处,干燥是必须的。
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发表于 2009-8-13 23:13:50 | 显示全部楼层
7# yuanloveki
如果有CDI工序就不能用N2,因为CDI不能吸收N2
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发表于 2009-8-14 08:53:39 | 显示全部楼层
我们也是间歇式加料,用氮气吹的
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