请问用ICP-MS如何检测三氯氢硅中金属杂质？

发表于 2011-8-18 17:42:38

回复 10# zhouliya
你懂个屁

发表于 2011-9-17 01:41:49

楼上的何出此言，就是不懂或有搞不清楚之处，才在这里问嘛。你懂可以教教我们，谢谢先。

发表于 2011-9-20 22:39:44

哪位知道ICP-MS（电感耦合等离子体质谱仪）与ICP-OES（电感耦合等离子体发射光谱仪）在三氯氢硅分析中的区别 ...
goonchong 发表于 2008-4-23 15:45

登录/注册后可看大图
质谱仪是痕量级的，光谱仪是微量级的

发表于 2008-4-23 15:45:00

回复 7# cpz68868739
我知道质谱仪可以检测PPb级的，PPt级的也可以检测吗？

发表于 2011-9-20 22:42:21

回复 1# piaowu0335
我想，首先得用适当的溶剂把多晶硅溶解，然后就可以用MS检测了

发表于 2011-9-20 23:00:15

损害仪器主要是氯化氢其具有腐蚀性
现建议如下方式：称一定质量的三氯氢硅用氢氧化纳溶解此时氯化氢已经不存在或挥发或形成氯化钠再取适量的反应后的氢氧化纳溶液进行分析安全无腐蚀

账号		自动登录	找回密码
密码			立即注册