关于四氯化硅冷氢化的技术

现在[wiki]多晶硅[/wiki]项目这么热，而我们现在只是重复购买人家国外的热[wiki]氢[/wiki]化技术，过去我们739 搞了那么多试验，冷氢化还是没有大规模的投入生产。我们知道人家国外的冷氢化技术比较成熟，应用已经很久了，而我们现在没有人愿意坐下来搞一下冷氢化的研究。很悲哀。
我希望大家把所有关于多晶硅冷氢化的经验分享一下。我愿意投入一生从事这一方面的研究

你的热氢化和冷氢化是指的什么,希望能详细叙述一些,或着可以短消息交流

热氢化就是目前俄罗斯和美国或德国采用的在1250度，低压下四氯化硅与氢气直接在清华炉内反应，部分生成三氯氢硅。而冷氢化就是最早UCC的技术，在氢化的过程中要加入硅粉，反应的温度在500度左右，压力为25-30 公斤。

原来是这样,其实热氢化就是干净氢化,冷氢化就是脏氢化,国内一般都是这样叫的,脏氢化国内有搞的,这方面的资料虽然不多,但还是有的,不过楼主的精神可嘉,大家可以交流

你看我们国内几年了，重复人家国外的专利都做得不好，不过前一段时间听说中能开始大规模使用了，但还是出了问题，说明我们现在的企业太浮躁。应该说好好静下来研究一哈，是可以实现的。
脏氢化目前的问题是不能连续，工艺不稳定。

没有人理会，只好自己多写点了。
听说冷氢化比较危险，国内最近有的企业使用冷氢化发生了[wiki]爆炸[/wiki]。是不是有这样的情况；
如果有的话，我分析可能是由于[wiki]设备[/wiki]经常性的冲压和卸压太频繁。目前国内也没有好的办法，美国佬的东东我们又搞不来，各位有何高招能一同分享吗？

caoyuanlang 、追梦人
如果采用Zn 还原，会是怎么样？

我了解的情况是使用zn 还原应该相当不错，可惜国内从事这方面工作的人比较少

感谢楼主，感谢你提供的资料，佩服你的精神。

楼主的精神可嘉!不过难度较高啊.....