三氯氢硅合成反应的问题

xilihuagong 发表于 2014-2-20 09:51

                                
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不会导致反应无法进行！相反，我认为增大H2与HCL的比例，反而会增大TCS的产率！
我们生产上也做过实验，H2 ...
H2的存在抑制了STC的生成，请问你们实验时流化床温度好控制吗？是否因为H2增加导致床层温度不好控制？

所以直接在入反應器時最低溫度條件設為350度,這樣才省的不利條件就減少!!!
至於不冷凝的氣體H2則藉由STC下去互相反應生成TCS和HCL!!!
當然STC&H2&HCL&Si 這四種的互相調件必須控制好反應器的溫度和壓力去做調整.
至於在多出的不冷凝氣體可以再回收利用~~~節能

隐身猪 发表于 2014-2-20 13:05

                                
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H2的存在抑制了STC的生成，请问你们实验时流化床温度好控制吗？是否因为H2增加导致床层温度不好控制？
增加H2量后，温度没有感觉不好控。
我们的温度监测点非常多，一旦温度有波动，调整热媒流量，整体温度波动不会很大

H2和HCL进入炉内反应很好啊，炉内温度你可以用导热介质带走啊，H2进入系统对炉内的沸腾和热量有很好控制，同时还能抑制四氯化硅的生成。

学习一下，不错

楼主你说的TCS产量低，是不是温度和压差控制有问题，TCS合成炉内有导热介质，H2进入，不影响你的温度的，至于你是不是担心H2大量进入带走你的硅粉，导致你的产量感觉上不去，如果是这样建议你的H2通入量适当减少，同时在大修时可以考虑在合成炉内加内置旋风筒，防止未反应的硅粉被气流带走。这样你的担心就不存在了。至于不凝气体主要是H2，如果有HCL合成炉可以回收（外购HCL可以考虑上吸附装置将H2回收至冷氢化或还原用）。另外你的炉内是不是因为硅粉输送系统有N2窜入TCS合成系统，这个肯定会抑制你炉内的反应，查查原因。希望对你有帮助。