多晶硅的氮化和氧化是怎么一回事?
请问个位多晶硅的行家,用西门子法生产多晶硅,炉子不是要置换干净吗,所谓氮化现象是怎么发生的,是温度高了还是什么原因?氧化有是什么条件下产生的?还请高手指点一下~~~static/image/smiley/default/handshake.gif
是要置换干净,不过谁能保证100%干净?另外氮气和氧气也有可能混合在物料中 氮化有几个方面;包括过程中氮化,和停炉后氮化。过程中氮化主要是指还原反应中的氢气纯度不够,夹杂着氮气浓度较高,使一部分氮气发生反应。停炉氮化主要是指在停炉后,炉内的温度太高,没有进行氢气长时间的降温,而直接进行氮气置换降温,导致硅棒表面被氮化。氧化和氮化产生的机理是类似的。以上仅供参考。哈哈 楼上的兄弟,很厉害啊,很热心,支持你,,不错 过程中氮化需要进行物理检测才可以检测出来,如果是停炉后氮化会在棒子表面显现出来! 过程中出现氮化的可能性不大,除非你的氢气质量太差了。硅棒生产完后应该长时间用氢气冷却降温,是完全可以避免氧化的。 还有就是要注意置换氮气管线内漏进入炉内,氢气降温一定要到位。 氧化如果不是因为设备里漏水(当然如果用导热油就不会了),就是因为原料气不纯,尤其是氢气不纯 置换的前后不是用一些检测手段来分析是否置换干净吗?或者是长久积累的经验,估计在啥时是置换干净的。 开炉前,置换前后要测氮气的露点,另外氮气的氧含量要达到标准
停炉,氢气置换完全后,再通氮气置换
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