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齐鲁旭化成NCH型电槽运行总结

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发表于 2008-1-11 15:40:25 | 显示全部楼层 |阅读模式
本帖最后由 sunjl1981 于 2013-1-6 20:42 编辑
文章来源:2007年中国氯碱技术年会论文
文章名称:NCH型旭化成电解槽运行情况总结
作者:刘兆强,李明,王尚庚(中国石化齐鲁股份有限公司氯碱厂,山东 淄博 255411)
摘  要:介绍了20万t/a离子膜烧碱装置电槽两种离子膜的运行状况,对两种离子膜的实际运行情况进行了分析对比,初步探讨了离子膜电槽运行的影响因素,提出了优化措施。
关键词:离子膜;酸度;游离氯;直流电耗
简介:齐鲁公司氯碱厂20万t/a离子膜烧碱装置于2004年10月10日建成投产。该装置二次盐水、电解及淡盐水脱氯工序引进日本旭化成公司的工艺技术,采用自然循环高电流密度 (ML-32NCH)复极槽。离子膜采用1台杜邦膜N982(R2230A)和9台旭化成膜F4401(R2230B-J),在本装置开车运行的2年多时间里,电槽运行中出现了各种情况的变化,现将电槽开车至今膜的运行情况总结如下。
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[ 本帖最后由 yzhms 于 2008-5-13 11:17 编辑 ]

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发表于 2008-5-13 08:49:29 | 显示全部楼层
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[ 本帖最后由 杨队长 于 2008-5-13 08:51 编辑 ]
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