如何稳定控制挥发器的温度

发表于 2009-1-19 01:06:30

如题，还原工序，采用热水加热，该如何稳定控制三氯氢硅挥发器的温度，让其工况稳定呢？
[ 本帖最后由 lhj0abc 于 2009-1-19 21:28 编辑 ]

发表于 2009-1-19 15:14:19

挥发器只加热，不通入氢气鼓泡吗？感觉进料流量的确定靠确定热水流量是比较难确定的。

发表于 2009-1-19 15:32:00

再沸器加热的温度不可能稳定啊，因为温度要根据前后工艺参数的变化而及时变化。也与精馏塔工作状态有很大关系。

发表于 2009-1-19 21:29:38

原帖由 和谐社会 于 2009-1-19 15:14 发表

登录/注册后可看大图
挥发器只加热，不通入氢气鼓泡吗？感觉进料流量的确定靠确定热水流量是比较难确定的。
就是想知道该如何稳定确定

发表于 2009-2-10 14:51:17

的确不是很好控制的，因为他和氢气的流量，混合气的使用量，以及加热水需要的水温的影响，而且这三者是变量，所以不好控制。不过看你们公司使用的是什么控制系统我们的一般花点精力手动控制一下，温度还是能够控制的比较平稳

发表于 2009-2-10 15:41:17

可以达到自动控制饱和压力和饱和温度是相对应的

发表于 2009-2-11 13:49:27

一般的是通过设备厂家的一套控制系统来实现，炉子要给他一个反馈的量

账号		自动登录	找回密码
密码			立即注册