多晶硅生产装置安装前清洗质量标准和清洗等级划分

多晶硅生产装置的清洗目前尚没有公认的清洗质量标准，但可参照以下标准的检验方法进行检验，
HG 20202-2000《脱脂工程施工及验收规范》；

HG/T 2387-2007《工业设备化学清洗质量标准》；
DL/T 794-2001《火力发电厂锅炉化学清洗导则》；
  根据生产工艺的不同，目前主要有两种清洗等级；
1.三氯氢硅法：分为洁净清洗和一般清洗：精馏工序以前的设备和管道多为一般清洗，还原及以后工序的设备和管道（含尾气回收CDI和三氯氢硅储罐）多为二级清洗。
2.硅烷法：分为一级清洗、二级清洗和三级清洗（国外厂家标准）一级主要是硅烷类设备和管道，二级为溶剂/混和溶剂和庚烷类设备和管道，三级为其他类设备和管道。
针对被清洗设备管道的不同，清洗施工工艺可划分为四类：喷淋清洗、循环清洗、浸泡清洗（槽浸法和灌浸法）和擦拭清洗。
洁净清洗用纯水经过化验符合要求：油含量为零，电导率15mS/cm，电阻率≥15MΩ.cm
，SiO220mg/L，Cl-离子5mg/L。
干燥用压缩空气应严格采用无油干燥空气，质量经检验符合要求：露点≤－40℃，尘埃粒子≤0.3µm。