三氯氢硅合成中的HCL的除水

来自解析工序，压力50~-80KPa的水蒸汽和氯化氢混合气，经气体冷却器、水雾分离器、组合干燥塔、其含水量下降到200ppm以下，温度在18℃左右，压力约40~70KPa，进酸雾分离器，把酸雾除去后送入下道工序。
为确保工艺过程的实现和安全、可靠、稳定、经济的运行，流程中配套设置有循环水、冷冻水供排网络。
气体冷却器为立式块孔式石墨冷却器，气从管内由上而下流过，水在壳层流动，气液逆流传热，经冷却器后的混合气温度下降到10℃。冷却使用5~7℃冷冻水。混合气出口温度的调节，主要通过自动控制冷冻水流量大小来完成。湿混合气经冷却、冷凝后形成了许多颗粒直径大小不等的液滴，液滴汇成酸水从底部排出。
无法从气流中分离下来的水雾随混合气进入水雾分离器，为确保水雾的有效分离，本设计引进了先进除雾技术，采用的玻璃纤维除雾筒，据称对于粒径大于3μm的雾滴可100%除去，对小粒子除雾效率也高达99.3%。所凝聚下来的酸水同样从底部酸水出口管流入排水总管，几乎无水雾的混合气就被送入干燥塔进一步脱水分。
干燥塔的任务是解决冷却除雾后混合气中的很小部分水分（约1200PPM）。浓硫酸吸收水蒸气是气膜阻力控制的物理吸收过程，过程速率等于传质系数乘推动力。传质系数的影响因素主要为：气流速度、硫酸浓度、操作温度、设备因素。过程推动力等于气相中水蒸气分压和硫酸的平衡水蒸气分压的压差。推动力随操作压力增大，温度降低，混合气中含水量增加而增大。所以在负压操作系统中推动力要小于正压操作系统，在负压操作系统的脱水难度要更大一些。氯中含水量越低，脱水越困难。所以要是操作不理想，种种困难必将出现，这是绝对要努力避免的事情。
干燥过程选用组合塔流程，由于采用了先进的塔内件技术确保了气液两相在填料层内的均匀分布，加上操作条件的合理选择，故具有效率高、压降低、弹性大、操作方便、可靠、经济、稳定等优点。
出组合干燥的气流中夹带了少量的酸雾，应进入酸雾分离器，为确保酸雾的有效分离，本设计引进了先进的除雾技术，采用的玻璃纤维除雾筒，据称对于粒径大于3μm的雾滴可100%除去，对小粒子除雾效率也高达99.3%。所凝聚下来的酸液同样从底部酸出口管流入排酸总管；酸雾分离器有一补酸口，必要时可加入浓硫酸。这样，含水量低于200PPm，几乎无酸雾的混合气就被送入下道工序。
尽管1台组合干燥塔从脱水总量来看“功劳”不大，甚至达到微乎其微的程度，但因氯化氢气体中含水量越小脱除难度越大，所以这个阶段的任务依然艰巨。所以硫酸的温度和浓度是非常重要的工艺控制点。
为避免开停车、系统检修、异常事故等过程所产生的废酸和废液对环境造成的污染，流程中设置排酸总管，它同其他设备排污口相连通，一旦需要排液，只要打开连通阀门，废酸即可通过稀酸泵排出系统。

有哪位朋友能告诉我一下三氯氢硅的生产工艺和精馏操作技术啊！
多谢了。

HCL需要除水吗，咋新光的HCL没有除水，他的合成一样的开起来了！！！

水冷器就可以，关键是对原材料含水量的控制，这在采购的时候一定要注意
氢气的标准应该到达，控制好液氯的含水量，合成的氯化氢通过水冷器，深冷器，雾沫分离器除去废酸
硅分注意干燥的问题，油热。电热都可以，实验中具体操作

新光的开不了多久就堵就停下来

本帖最后由 limingshuguang 于 2009-11-4 11:12 编辑
新光的氯化氢是自己合成的，它电解出来的氢气含水量几乎可以不记只含有小于0.003%的氧气，氯气水和其它杂质含量小于0.015%所以合成出来的氯化氢中的水分和氧化物小于200ppm，水分是相当少的，根本就没有必要除水。合成出来的氯化氢直接经过风冷和水冷就能达到使用标准，没得你们上面所说的那么复杂。主要还是控制氢气和氯气的进料量，不能有过氯操作

新光停车很正常，有哪一家公司的合成不是两个月停一下车啊，两个月还是算长的好的了。用加压操作能达到这一下耶已经不错了

三氯氢硅生产工艺已经发到论坛上啦！ 2# liujiangpinggo

新光的氯化氢是自己合成的，它电解出来的氢气含水量几乎可以不记只含有小于0.003%的氧气，氯气水和其它杂质含量小于0.015%所以合成出来的氯化氢中的水分和氧化物小于200ppm，水分是相当少的，更本就没有必要除水。合 ...
升级 发表于 2009-5-11 10:15

                                
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兄弟200PPM的水含量还是太高了，这样的HCL进了流化床很多后续合成部分会堵的，另外腐蚀性也很强。。。。。。。。。。。。。。。。。。（个人见解，仅供参考）

新光的没有除水吗？反应过程不会沉积很严重？ 3# zp19861023