多晶硅 还原气分离

多晶硅　　还原气分离
       多晶硅尾气各主要成分的体积分数分别为，HCl 30%；H2 64.2%；SIHCl3 5.4%；其他0.2%。多晶硅尾气均为可回收的产品或可循环使用的原料。对尾气进行有效的治理，不仅可以提高原料的利用率，还可以降低三废的排放量。为了合理治理尾气，必须根据尾气的特性、成分、压力等，选择适当的工艺流程和技术条件。
     利用以上几种组份的沸点差异、溶解度差异和在吸附剂上附着能力的差异，可以将以上几种组份完全分开。我公司开发了以下两种工艺技术处理多晶硅尾气：
分离方法：
1、  冷凝吸附法
     多晶硅尾气进入冷凝分离系统，增压后的合成气被降温，氯硅烷和氯化氢被分离出来，然后通过精馏将氯化氢和氢气分离，氢气进入吸附精制系统，得到高纯度的精制氢气。
     冷凝分离系统由制冷压缩机组、精馏塔和泵组成，吸附精制系统由吸附塔、加热器和冷却器组成。
2、  变压吸附法
     变压吸附系统由吸附塔、换热器和缓冲罐和组成。任意时刻都有吸附塔处于吸附状态，其余处于再生状态。通过氢气、氯化氢、氯硅烷在吸附剂表面上吸附能力的差异，将氢气、三氯氢硅、氯化氢分离开。吸附剂通过升温和降压的方式得到再生。再生结束，吸附塔又重新具备处理三氯氢硅尾气并生产氢气的能力。
     经过这一系列过程后吸附塔便完成了一个完整的“吸附-再生”循环，又为下一次吸附做好了准备。各吸附塔交替进行吸附、再生，即可实现气体的连续分离与提纯。

体积分数中HCl的含量高了些，不知道还原炉的具体控制条件？

变压吸附是怎么把三种物质分开的啊
请楼主详细讲解一下
谢谢

还原尾气经过过滤除尘冷凝分离组分

这位大哥，您说的这个尾气成分里面四氯化硅的含量是不是太低了呢，此外，如果含氢量只有百分之六十几的话，炉内的反应也不是很好，视镜上很容易变得雾蒙蒙的。还望赐教，谢谢

LZ的组分应该是三氯氢硅合成尾气吧

谁有吸附剂成分？

HCL成分超高！
主要还是H2和SIHCL3!

LZ不是搞多晶硅的吧
HCL的含量不会超过10%
尾气中应该会含有百分之几的STC

那是由于有低温反应，生成了硅油
此外炉壁会长大量的不定型硅和硅氯化合物
5# 忧郁小精灵