多晶硅生产过程的污染有哪些?

发表于 2009-5-28 10:08:41

多晶硅生产过程的污染有哪些?

发表于 2009-5-28 12:54:28

硅粉粉尘污染，氯硅烷废气废液污染，酸洗废液污染。

发表于 2009-7-21 13:27:08

生产过程中的废气、废水、废渣和设备噪声。
（1）废气：三氯氢硅提纯时的不凝气，用于系统保护和气体置换的氮气，硅棒、硅芯洗涤产生含NOX和HF的废气。
（2）废水：主要包括纯水制备废水、酸洗废水、纯水冲洗废水、化验室废水、尾气处理废水、蒸馏残液中和废水和职工生活污水。
（3）废渣：三氯氢硅合成过程产生的硅渣、三氯氢硅提纯过程析出的低沸物、四氯化硅提纯过程产生的蒸馏残液、工艺尾气处理废水过程中产生的废渣、酸洗废水和化验废水中含有氟化物以及职工生活垃圾等。
（4）噪声：主要是氢气压缩机、冷冻机、空压机等会产生空气动力学噪声。

发表于 2009-7-21 17:23:34

还有还原炉的热辐射，硅芯炉的高频辐射，也应该属于污染范围。

发表于 2009-7-23 13:00:14

CDI：主要是噪音污染。
精馏主要是氯硅烷泄露。
氯氢化主要是HCL 氯硅烷等泄露。尤其是排废气，HCL太多。
真实生产体验，强烈要求加分。

发表于 2009-9-25 21:59:10

比较多，像氯化氢合成，tcs

发表于 2009-10-15 14:17:00

废水，废气，废渣三项都有！

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