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多晶硅版块每日一题11.02

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发表于 2011-11-1 21:20:28 | 显示全部楼层 |阅读模式
本帖最后由 wangli115 于 2011-11-1 21:22 编辑
[color=]1.请大家隐藏回复,发帖后编辑无效!不隐藏直接删除!
[color=]2.隐藏方法:
[color=]https://bbs.hcbbs.com/thread-492556-1-1.html


3.所有回答必须是在北京时间11月02日有效时间内完成,谢谢您的参与。
[color=]4.正确答案将在11月3日正式公布。
    今日题目为选择题,每题正确可获得2财富奖励,全部回答正确可得6财富,参与回答即可获得1财富鼓励,具体题目如下:
  1、在N型半导体中,(    )是多数载流子。
(A)原子  (B) 分子 (C)  离子 (D) 电子
  2、多晶硅中的受主杂质主要是(   )。
(A) H2    (B)Ca  (C)p(D)B
  3、氢气与氯气燃烧合成的HCl中,含有少量H2O,采取(   )方法脱水较好。
(A)硅胶吸附  (B) 加热挥发
(C) 冷冻脱水 (D)浓硫酸洗涤吸收
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发表于 2011-11-1 21:38:17 | 显示全部楼层
回复 1# wangli115
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发表于 2011-11-1 21:41:18 | 显示全部楼层
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发表于 2011-11-1 21:55:24 | 显示全部楼层
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发表于 2011-11-1 22:37:03 | 显示全部楼层
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发表于 2011-11-1 22:53:15 | 显示全部楼层
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发表于 2011-11-1 23:11:47 | 显示全部楼层
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发表于 2011-11-2 05:34:34 | 显示全部楼层
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发表于 2011-11-2 07:07:49 | 显示全部楼层
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发表于 2011-11-2 07:45:54 | 显示全部楼层
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