多晶硅工艺【每日一题】2011.11.09

发表于 2011-11-8 22:51:56

本帖最后由 yizhuxuan 于 2011-11-13 22:53 编辑
今日【每日一题】关于还原车间：

1.以下不合理的还原炉底盘处理方式是。

A 吸尘 B N2吹扫 C 无水乙醇擦拭 D 水洗

备注：

1. 请大家隐藏回复！隐藏方法：https://bbs.hcbbs.com/thread-492556-1-1.html

2. 参与者必有2点财富奖励，回答正确即有5点财富奖励；

3. 不设置回复可见作删除处理，回复后请勿编辑，编辑后只能获得2点财富奖励；

4. 作出简要分析的，可酌情加分！

5. 答题截止时间至当天夜里12点，敬请关注。

答案D

发表于 2011-11-8 22:59:39

游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复

发表于 2011-11-8 23:51:04

游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复

发表于 2011-11-9 02:18:38

回复 1# yizhuxuan
游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复

发表于 2011-11-9 06:23:12

回复 1# yizhuxuan
游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复

发表于 2011-11-9 06:35:45

游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复

发表于 2011-11-9 07:04:43

游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复

发表于 2011-11-9 07:04:49

回复 1# yizhuxuan
游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复

发表于 2011-11-9 07:07:57

回复 1# yizhuxuan
游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复

发表于 2011-11-9 07:28:02

游客，如果您要查看本帖隐藏内容请回复

账号		自动登录	找回密码
密码			立即注册

多晶硅工艺【每日一题】2011.11.09

浏览过的版块