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氮氧化硅生成的反应温度???

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发表于 2009-12-18 14:45:35 | 显示全部楼层 |阅读模式
在还原炉置换过程中,如果氮气置换不干净的话,硅棒生长过程中,将会生成氮化硅物质附着于硅芯表面上,请请教各位大侠,硅与氮气常压下发生反应的温度是多少?
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发表于 2009-12-18 16:24:47 | 显示全部楼层
有在低温下(650度)的氮化,也有在高温下(900度以上)的氮化
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发表于 2009-12-18 16:50:43 | 显示全部楼层
我们还原炉启动时,炉内保持微正压(算常压吧),硅芯击穿前用辐射加热器给硅芯加热,温度控制在600以下(超过了就会发生硅腐蚀,即氮化),这时候是在氮气环境下加热的(氮气启动容易成功),就像楼上说的,有高温和低温氮化。
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