多晶硅生产中C和CH4的带入和产生原因请指点一下

发表于 2011-10-12 23:31:59

多晶硅生产中C和CH4的带入和产生原因？

发表于 2011-11-23 09:51:26

多晶硅生产中C和CH4的带入和产生原因？
l4u 发表于 2011-10-12 23:31

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1.热氢化的转化炉中会带入C。
2.回收车间碳塔也会带入C。
3.系统中的C与氢气反应就会产生CH4。

发表于 2011-10-12 23:31:00

对楼上的补充说明：还原炉中的石墨有可能与氢气反应将碳带入系统。

发表于 2011-11-23 10:17:21

谢谢你们的分析，学习啦！

发表于 2011-11-23 11:04:17

我们这里会定期分析精馏工段和回收氯硅烷里面的C 这是那里来的呢
C存在气相中就是CH4吗在氯硅烷中是什么形式呀小白不理解请教

发表于 2011-11-23 21:38:18

C的来源除了一楼说的之外，还有就是TCS合成中工业硅的带入，这部分是液态形式存在，进入还原炉可能会形成CH4（高温）反应，另外，氢化系统属于连续运转，石墨棒也会带入！楼主需要搞清楚一下多晶硅的全过程原料，采用排除的方法就可以得到结论！

发表于 2011-11-23 23:14:59

测甲烷其实就是测总碳，

发表于 2011-12-14 17:28:39

CDI活性炭柱也会引入C，氢气回收为闭路循环，而活性炭柱对C合物基本不具备脱除和控制手段，故而又会有累积效应

发表于 2011-12-15 14:31:17

C的带入主要是合成、尾气、氢化还原，在氯硅烷中主要为甲基氯硅烷形式存在。

发表于 2011-12-15 16:21:17

回复 8# zhengjiulu
请问吸附塔活性炭具体是如何引入C的或者说有什么反应？我们公司好像就是用活性炭吸附CH4啊，定期对氢气进行CH4含量难道不是去除C吗？

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