大化工论坛

 找回密码
 立即注册

QQ登录

只需一步,快速开始

微信登录,快人一步

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

开启左侧

两个多晶硅设备问题

[复制链接]
发表于 2010-4-14 15:24:21 | 显示全部楼层 |阅读模式
本帖最后由 langjihongchen 于 2010-4-14 15:29 编辑
有两道题不会做,望坛友帮助解决:
1、再生氢压机吸气压力波动的原因?
2、吸附柱温度加不上去的原因?
回复

使用道具 举报

发表于 2010-4-15 09:02:22 | 显示全部楼层
压缩机进口缓冲罐小了吧,要么压缩机循环管路阀门调节阀PID参数修改一下
回复 支持 反对

使用道具 举报

发表于 2010-4-15 09:06:22 | 显示全部楼层
再生氢压机吸气压力波动:
吸收塔卸载压力,再生的时候压力泄放的太快,你应该调整控制阀的参数
回复 支持 反对

使用道具 举报

发表于 2010-4-15 11:30:59 | 显示全部楼层
1:吸附塔泄压速度过快。导致压力波动。
  或者是调整氢气缓冲罐压力的自动调节阀,反馈太慢,或是是太快,根据实际情况调节。
2:再生温度尽量高点。吹扫氢流量尽量大点。
回复 支持 反对

使用道具 举报

您需要登录后才可以回帖 登录 | 立即注册 |

本版积分规则

QQ|Archiver|手机版|小黑屋|大化工论坛 ( 鲁ICP备12015736号-12 )

GMT+8, 2024-12-26 10:51 , Processed in 0.042653 second(s), 19 queries .

Powered by Discuz! X3.4

Copyright © 2001-2023, Tencent Cloud.

快速回复 返回顶部 返回列表