还原炉内发生的反应是吸热反应还是放热反应

发表于 2010-4-29 16:29:47

各位大哥能不能回答小弟一下，还原炉内发生的反应是吸热还是放热反应？还原炉内发生的反应主要有：
SIHCL3+H2=SI+3HCL
4SIHCL=3SI+SICL4+2H2
大家都知道通过计算焓变可以判断是放热还是吸热反应。但是我查不到相关数据，请知道的坛友不吝赐教

发表于 2010-4-29 16:48:21

因为Si+3HCl=SiHCl3+H2+209.34Kj/mol 是放热反应
所以SIHCL3+H2=SI+3HCL是吸热反应！

发表于 2010-4-29 17:51:11

多谢楼上的老兄了，根据我研究我们的化验结果，我们的还原尾气中HCL的含量很低，而SICL4的含量很高，从此可以判断主要发生的反应是第二个反应。那么第二个反应是放热还是吸热呢？是不是分解反应都是吸热反应呢?

发表于 2010-4-29 17:55:23

大多数的反应其实是TCS裂解，放热的...所以STC多

发表于 2010-4-30 09:14:44

hcl很少说明你的还原温度控制比较低

发表于 2010-4-30 10:21:22

吸热反应，如果是放热反应的话，那等反应启动了，就不要再通入高压电流了。

发表于 2010-5-2 20:23:19

楼主也太不仔细了点吧，三氯氢硅怎么变成了SiHCl
直接导致你的系数出问题，这个反应是吸热反应

发表于 2010-5-7 13:58:19

肯定是吸热反应了，和合成三氯氢硅是互逆的过程。 7# bergkamp888

发表于 2010-5-7 14:56:43

都是吸热反应。。。。。。。。。。。。。

发表于 2010-5-14 21:53:52

是吸热反应，与三氯氢硅合成互为逆反应。

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