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三氯氢硅一塔湿法水解除硼。。。。

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发表于 2009-6-29 16:12:35 | 显示全部楼层 |阅读模式
请问三氯氢硅精馏中一塔水解除硼是怎么除的,知道的大侠把具体的流程说下,小弟不胜感激。
现在国内有多少家像这样除硼的?
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发表于 2009-7-1 07:05:54 | 显示全部楼层
我也很想知道一些,知道的大侠帮忙来一个呀。  gstw95@sohu.com
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发表于 2009-7-1 17:13:48 | 显示全部楼层
只知道基本原理...具体实施,也想知道...
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发表于 2009-7-1 17:35:38 | 显示全部楼层
我也想知道哦,可以的话给我发一个撒wq861023@163.com
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发表于 2009-7-1 17:35:53 | 显示全部楼层
我也想知道哦,可以的话给我发一个撒wq861023@163.com
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发表于 2009-7-1 17:41:07 | 显示全部楼层
理论上可以这么做,但是实际国内没有这样除硼的。
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发表于 2009-7-2 08:53:52 | 显示全部楼层
西门子法的一般都有这个工序,原理是基于硼的氯化物水解速度比HSiCl3要快得多,
一般利用湿N2往塔里充气。
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发表于 2009-7-2 09:10:58 | 显示全部楼层
西门子法的一般都有这个工序,原理是基于硼的氯化物水解速度比HSiCl3要快得多,
一般利用湿N2往塔里充气。
SSSSS 发表于 2009-7-2 08:53

                                
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这个原理其实大家都知道,但是说起来简单做起来就难了...这个具体是怎么实施的呢...尤其是这个水量怎么样能保证它正好合适,怎么保证其中这些痕量的氯化硼与水能够充分反应,而又不会消耗过多的三氯氢硅...........
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发表于 2009-7-2 08:53:00 | 显示全部楼层
新光硅业就有这个,主要是做电子级多晶硅才用的,太阳能级的基本上用不到湿氮除P等。。。
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发表于 2009-7-2 12:56:19 | 显示全部楼层
我想这个技术还是很困难哦 ,尤其是控制水分含量的问题,再说生成的二氧化硅对塔会不会有堵塞等问题,希望高手指教哦
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