关于氯化氢干燥工艺

发表于 2009-7-16 09:35:08

氯化氢是合成三氯氢硅的主要材料，氯化氢干燥后气相水份含量的大小，对后续设备产生腐蚀，并导致后续工序产生副产物，所以氯化氢干燥在生产流程中是比较关键的一环。
   氯化氢干燥现在一般采用的工艺，采用深冷干燥工艺，氯化氢采用两级冷却后，气相温度降至-15～-18度左右，根据理论数据计算及实验数据采集，此时氯化氢内含水份在300ppm左右，对装置具有腐蚀危险。
   另外一种工艺为浓硫酸干燥工艺，此工艺根据浓硫酸的物理吸水性，由于浓硫酸上面具有较低的水蒸汽分压，经过硫酸干燥以后，氯化氢气相中水份降至50ppm以下。
   请高手对这两个工艺的优缺点进行对比

发表于 2009-7-16 13:58:27

主要采用第一中工艺方案，同时考虑氯硅烷降低水含量方法，可达到含水在1PPM

发表于 2009-7-16 15:12:25

1ppm是因为水份在反应条件基本形成副产物，所以在氯硅烷内的水份才能达到1ppm，而且后续的精馏工序会降水份在低沸塔内被进入低沸物

发表于 2009-7-16 23:11:20

第一种吧！含水在300PPM已经可以满足后续工段的要求了，后一种没有接触过！倒是也可以再考虑一下TET除水，但是代价是TCS纯度降低，所以，一般来说，只要你能达到300PPM，就完全可以了！

发表于 2009-7-17 14:30:16

如果能够将水分降到最低，当然是最好了。
深冷始终不能将水分降到一个很低的水平。
好多企业考虑用ＴＥＴ　来脱水。但是脱水过程中会生成ＳｉＯ２。容易将管道和合成炉喷嘴堵塞。
而且ＴＥＴ的量控制也需要完善，这也是一个需要解决的问题。

发表于 2009-7-20 08:59:13

如果能够将水分降到最低，当然是最好了。
深冷始终不能将水分降到一个很低的水平。
好多企业考虑用ＴＥＴ　来脱水。但是脱水过程中会生成ＳｉＯ２。容易将管道和合成炉喷嘴堵塞。
而且ＴＥＴ的量控制也需要完善， ...
炸你象猪头发表于 2009-7-17 14:30

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能不能用分子筛，活性炭这些？

发表于 2009-7-17 14:30:00

本帖最后由 ccly1243 于 2009-7-20 09:03 编辑
冒昧的问下，TET是什么工艺，分子筛的话好像能耗比较高，活性炭没什么吸水效果的吧？

发表于 2009-7-20 09:02:13

冒昧的问下，TET是什么工艺，分子筛的话好像能耗比较高，活性炭没什么吸水效果的吧？
ccly1243 发表于 2009-7-20 09:02

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四氯化硅，也有叫做TET的

发表于 2009-7-20 14:14:28

要经三级冷却，先用5℃水冷，形成大的露核，再用深冷，才会形成较大的露滴。最后经二级除雾。你的温度控制的太低了，会形成氯化氢和水晶胶体的，应控制在-14℃±2℃效果最好。这样就可使含水在60PPm以下了，可提高硅粉的收率。对生产会有很大的好处的。

发表于 2009-7-20 09:02:00

9# tcs1789@163.com 我们公司提供HCL合成，全自控点火工艺，并含事故气体吸收，和一套吸附干燥系统，水分有、低于10PPM，已为两家提供全自空设备，15962956408谢培学，

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