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关于多晶硅生长速度的几个概念

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发表于 2010-7-9 14:41:30 | 显示全部楼层 |阅读模式
多晶硅在还原炉内沉积过程中的几个概念:沉积速度、沉积速率、径向平均速度,有什么区别?
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发表于 2010-7-9 14:52:28 | 显示全部楼层
沉积速度是指在还原反应中单位时间内沉积硅的重量。
所谓沉积速率,是指还原反应中单位时间、单位载体长度上沉积硅量;
即从开始到结束,平均每小时所沉积的硅棒径向增长长度。
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 楼主| 发表于 2010-7-9 14:58:57 | 显示全部楼层
那第三个呢?怎么理解
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发表于 2010-7-9 21:02:07 | 显示全部楼层
径向平均速度就是  从进料开始硅棒直径到停炉时所获得的直径除以生长时间
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发表于 2010-7-9 23:33:12 | 显示全部楼层
回复 3# dwj119110dwj
    第三行(第三句)就是 径向生长速率
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发表于 2010-7-9 23:35:36 | 显示全部楼层
回复 4# 情合赢
    其实我自己的想法是:径向生长速率,即从开始到结束,平均每小时所沉积的硅棒径向增长长度,是厚度的增长,即 增长半径之差/t。
是谁规定的是,直径之差/t 呢???
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发表于 2010-7-10 08:42:26 | 显示全部楼层
回复 6# jesscy
楼主是问径向平均速度啊,不是速率哦。
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发表于 2010-7-10 08:49:54 | 显示全部楼层
回复 7# 情合赢
    那速度 是应该有方向性的,速率没有
    所以我才觉得应该是径向增长的厚度——半径之差/t  a啊
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