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取样器的清洗

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发表于 2010-4-26 16:49:58 | 显示全部楼层 |阅读模式
多晶硅生产过程中三氯氢硅和四氯化硅取样分析后,对取样器的清洗非常麻烦,请教同仁应该如何清洗啊?
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发表于 2010-4-27 12:09:53 | 显示全部楼层
先用氮气吹干净啊,在用纯水冲洗,嘿嘿。。。。。。没洗过,只是个人建议。。。。。。。。。。
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发表于 2010-6-14 15:26:46 | 显示全部楼层
依次用氮气、水、10%的氢氧化钠、水、高纯水、高纯氮气清洗吹扫。
也可以设计一个清洗吹扫装置。
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发表于 2010-6-18 10:41:31 | 显示全部楼层
一般都是使用密闭的取样器的啊,最好不要拿水清洗,如果有残余的硅烷的话会剧烈反应的。可以先用氮气吹扫,然后用负压装置吹扫,然后就是直接密闭起来就好了!取样瓶都*定使用的,放样完就可以密封起来。
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发表于 2010-8-12 13:00:40 | 显示全部楼层
只能说那个做取样器的很不专业,现在取样器的技术都很成熟了,取样完毕直接吹扫,根本不用再清洗的。
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