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二氯二氢硅进还原炉杂质含量要求?

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发表于 2010-6-15 22:11:15 | 显示全部楼层 |阅读模式
众所周知,适当比例的二氯二氢硅通入还原炉是有好处的,但目前得到高纯的二氯二氢硅似乎比高纯三氯氢硅还难,所以请大家讨论下若要将二氯二氢硅通入还原炉,对其杂质含量(B、P等)怎么要求?欢迎大家讨论!
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发表于 2010-6-16 11:43:15 | 显示全部楼层
同求啊  期待高人
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发表于 2010-6-16 17:56:25 | 显示全部楼层
这个需要不断累积经验才行,但认为二氯二氢硅不宜含量过高
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发表于 2010-7-14 20:16:58 | 显示全部楼层
同求!我只知道回收料比合成料生产的多晶硅的质量好,就是因为回收料中含有一定比例的二氯二氢硅吧!
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发表于 2010-7-15 01:56:51 | 显示全部楼层
有一定量的二氯二氢硅是好事,不仅能抑制三氯氢硅被还原到二氯二氢硅这步反应,还能增大硅棒的生长速度,但一般不宜超过5%,因为含量太高了会让硅棒长得比较蓬松,据说还会让还原炉的温度“莫名其妙”地升高,至于为什么就不知道了…
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发表于 2010-9-17 14:04:00 | 显示全部楼层
弱弱地问一句,二氯二氢硅的杂质含量是什么意思啊,难道你们要用纯的二氯二氢硅去还原吗?难道二氯二氢硅杂质含量还要与进料的三氯氢硅有所不同吗?
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发表于 2010-9-20 22:15:28 | 显示全部楼层
二氯二氢硅在还原过程中不能算杂质,准确说算一成分
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发表于 2010-9-22 21:42:30 | 显示全部楼层
楼主是中硅的吧?
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