三氯氢硅氢还原反应基本原理

SiHCl3和H2混合，加热到900℃以上，就能发生如下反应：
           

同时，也会产生SiHCl3的热分解以及SiCl4的还原反应:


此外，还有可能有


以及杂质的还原反应：


这些反应,都是可逆反应，所以还原炉内的反应过程是相当复杂的。在多晶
硅的生产过程中，应采取适当的措施，抑制各种逆反应和副反应。以上反应式中，
第一个反应式和第二个反应式可以认为是制取多晶硅的基本反应，应尽可能地使
还原炉内的反应遵照这两个基本反应进行。