多晶硅生产中，氮气的要求是怎么样的

发表于 2010-9-27 21:24:59

多晶硅生产中，氮气的要求是怎么样的？请教各位

发表于 2010-9-28 13:56:37

一般分1.2MPa，0.6MPa,0.3MPa 三种，主要用于管道与设备的吹扫，置换，另外对与氯硅烷灭火有很好的效果

发表于 2010-9-29 10:48:54

主要看氧含量和露点，氧含量小于1000ppm,露点-40℃左右

发表于 2010-10-2 10:50:12

氮气基本就是吹扫和置换作用，另外在硅粉干燥的时候会用到，没有别的太大的用处。

发表于 2010-10-15 16:04:16

如果有氯化氢合成的话，还需高纯氮气再生分子筛了。

发表于 2010-10-15 21:06:46

主要是测N2露点，检测含水量

发表于 2010-11-23 16:20:08

氮气作为保护气。

发表于 2010-12-1 13:56:20

今晚回去翻下操作规程再告诉你我记得好像低于0.2‰
但现在生产中没多少人真正关心这个东西 N2 只用来置换第一次开车时测下氧含量和露点就可以
非要追求N2含量的话太浪费用氢气去置换N2 达到高纯度的话浪费太多

发表于 2010-12-1 17:43:12

只是属于保护性气体

发表于 2010-12-5 10:27:01

只要应用在精馏塔补气，还有氢化还原置换用。要求是0.8MPa（G），到现场了自己减压。制氮露点要求是-70摄氏度，含氧量低于0.1%。基本要求是。

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