还原炉内雾化原因

发表于 2011-3-27 13:46:55

温度过高或过低都会雾化

发表于 2011-3-27 21:03:26

最好理解的就是反应太剧烈，产生的硅粉来不及沉积

发表于 2011-3-29 13:16:00

原因是多反方面的配比啊温度啊过程控制不好

发表于 2011-3-29 14:20:56

还原炉内HCL含量过高。。。

发表于 2011-3-29 15:23:41

进料配比没调好，三氯氢硅多，氢气少

发表于 2011-3-30 21:26:46

没遇到过这种情况！不知道你说的是什么情况！

发表于 2011-4-4 21:32:23

三氯氢硅多了就会雾化跟温度氢气量有关

发表于 2011-4-5 23:07:05

温度高了难倒也会产生雾化？

发表于 2011-4-6 16:46:04

回复 9# wxky83
我想他说的温度高是指气液分离器内的温度高了，导致三氯氢硅大量气化，影响了配比。

发表于 2011-3-27 10:40:36

求助，造成还原炉内雾化的原因，请高手帮忙分析分析！

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