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最接近实际生产工艺和设备的冷氢化专利

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发表于 2011-3-22 07:55:17 | 显示全部楼层
谢谢了,好好学习了
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发表于 2011-3-22 08:39:19 | 显示全部楼层
谢谢楼主,资料很好呀。但是,我有一个疑问:现在设计好像不用内旋风,除了降低消耗其它没有好处,请楼主讲解。
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发表于 2011-3-22 08:58:16 | 显示全部楼层
先顶再下,谢谢分享
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发表于 2011-3-22 11:05:54 | 显示全部楼层
回复 13# king70868
    是这样,这只是别人的专利,只是给各位坛友提供一个思路,希望抛砖引玉,共同学习共同提高
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发表于 2011-3-22 13:39:33 | 显示全部楼层
看过了,是比较接近实际,和某设计院故作神秘兮兮的氯氢化工艺差不多。谢谢哥哥啊!
不过,小人本的企业,不支持!
小日本良心大大地坏!
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发表于 2011-3-22 13:39:39 | 显示全部楼层
看过了,是比较接近实际,和某设计院故作神秘兮兮的氯氢化工艺差不多。谢谢哥哥啊!
不过,小人本的企业,不支持!
小日本良心大大地坏!
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发表于 2011-4-14 17:35:30 | 显示全部楼层
不错嘛,不过没有详细点的参数
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发表于 2011-4-14 21:05:55 | 显示全部楼层
好东西啊 谢谢分享..........
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发表于 2011-4-15 10:57:42 | 显示全部楼层
还不错,希望楼主继续分享资料,谢谢
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发表于 2011-4-21 10:17:30 | 显示全部楼层
楼主实在是多晶硅行业的典范,能够把一些东西共享出来,值得学习。
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