无定形硅产生的原因是什么？

发表于 2011-7-1 11:16:46

产生原因：
1.氢气和三氯氢硅配比小
2.进炉混合气气量过大
3.反应温度过高
4.原料中杂质过多

发表于 2011-7-1 11:36:13

请问是单一方面的影响，还是共同作用下的结果呢？

发表于 2011-7-1 11:47:24

共同的结果，最重要是看到实际情况

发表于 2011-7-2 21:14:29

回复 2# liuhuan889396
无定硅是温度高造成的？？？

发表于 2011-7-2 21:42:56

是其中一种或几种因素作用造成的

发表于 2011-7-3 07:36:05

回复 2# liuhuan889396
不要误导楼主啊，产生无定形硅的主要原因 1：硅棒表面温度太低 2：气相温度过高 3：氢气太少。
第一种：常见于十二对棒的还原炉运行到后期，有的厂家将反应时间设置的太长，硅棒长得太粗，为了防止硅棒破裂，一般将后期反应温度设置的较低
第二种：常见于二十对及其以上的还原炉，还原大，温场分布不均，尤其内环四周都是硅棒，到了后期，热辐射强烈，只要气相温度局部超过了570℃，TCS开始分解产生硅粉，这种情况无法避免。
第三种：这种情况仅见于由于误操作时，氢气远远低于正常值时才会发生，一般的调整配比（从二调到五）都不会发生。

发表于 2011-7-3 09:01:28

之前我已经讲过无定形硅是其中一种或几种因素作用造成的，如硅棒表面温度高，原料纯度不够（例如轻组分含量较高），会造成TCS和DCS在硅棒表面剧烈反应，甚至在空间直接分解，这也是无定形硅产生的一种情况

发表于 2011-7-4 11:30:18

谢谢大家的回答！

发表于 2011-7-1 10:32:38

无定形硅产生的原因是什么？如何避免？

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