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多晶硅清洗可否用别的物质代替硝酸?

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发表于 2011-7-10 19:11:26 | 显示全部楼层 |阅读模式
多晶硅清洗一般都用HF+硝酸,硝酸会产生二氧化氮,污染大,能否用其它的物质来代替硝酸达到同样的清洗效果呢?
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发表于 2011-7-10 19:46:38 | 显示全部楼层
至少目前是这样洗。
您有想法很好,为什么您不在自己的企业做个试验呢?说不定您的试验成功后会让您一鸣惊人呢。
我看好你呦。
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 楼主| 发表于 2011-7-10 19:49:32 | 显示全部楼层
至少目前是这样洗。
您有想法很好,为什么您不在自己的企业做个试验呢?说不定您的试验成功后会让您一鸣惊 ...
qugd 发表于 2011-7-10 19:46

                                
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我想用其它酸来代替硝酸,试了常用的盐酸,硫酸,磷酸,高氯酸等无机酸以及一些常见的有机酸如苯甲酸等发现都不行。
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发表于 2011-7-10 19:46:00 | 显示全部楼层
最好做成免洗,就不要考虑酸的污染了
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发表于 2011-7-11 08:52:09 | 显示全部楼层
那么怎样做出免洗料呢
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 楼主| 发表于 2011-7-11 15:40:39 | 显示全部楼层
做免洗料恐怕比这个还困难
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发表于 2011-7-12 08:52:31 | 显示全部楼层
回复 1# hqzhang
    个人感觉应该找带有强氧化性的物质,不一定局限于酸
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发表于 2011-7-12 10:04:18 | 显示全部楼层
可以用氢氟酸和硝酸混合清洗。
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 楼主| 发表于 2011-7-12 17:09:12 | 显示全部楼层
回复  hqzhang
    个人感觉应该找带有强氧化性的物质,不一定局限于酸
lzf1211 发表于 2011-7-12 10:04

                                
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嗯,提供了一个思路,我试试其它的除了酸的强氧化物质
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发表于 2011-7-13 21:18:29 | 显示全部楼层
KF可以吗   有没有厂家不是HD+HNO3的
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