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如何消除硅棒的腐蚀

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发表于 2011-8-6 09:39:08 | 显示全部楼层 |阅读模式
大虾们硅棒在生长发生腐蚀的原因是啥原因,又是那些因素决定的?如何消除?
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发表于 2011-8-7 17:07:20 | 显示全部楼层
你说说是怎么个腐蚀法,你对硅棒采用酸清洗后,再采用高纯水清洗好,就可以消除了
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 楼主| 发表于 2011-8-8 15:46:24 | 显示全部楼层
回复 2# luoye888
我说的是硅棒在还原炉里生长时出现了腐蚀现象,它产生的原因是什么?又如何消除哪?谢谢!
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发表于 2011-8-8 16:27:31 | 显示全部楼层
还是不清楚你说的现象,请发张清晰的图片看看!当否?
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发表于 2011-8-8 16:55:17 | 显示全部楼层
回复 3# 临江曲
你说的是爆米花现象吧,这个你要控制好配比,温度和流量,具体需要摸索
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发表于 2011-8-9 10:40:45 | 显示全部楼层
硅棒腐蚀,个人认为是Hcl含量偏高了,造成HCL于硅反应,建议加大气流速度,使整个还原炉气场处于湍动状态
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发表于 2011-8-10 14:02:06 | 显示全部楼层
楼上的说法很对,但是四氯化硅也要和硅反映,过大得气体循环量会导致一次转化率降低,对后续尾气回收的生产负荷增大。
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 楼主| 发表于 2011-8-14 17:17:02 | 显示全部楼层
回复 7# cjzhx123
    谢谢!在腐蚀的情况下,硅棒温度提高好哪?还是降低好?
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发表于 2011-8-15 10:58:07 | 显示全部楼层
sicl4对si的腐蚀,据相关资料介绍温度要高于1200℃时才出现这种情况,反应温度控制在1100℃时较为合适
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 楼主| 发表于 2011-8-17 20:51:50 | 显示全部楼层
回复 1# 临江曲
本人后来经过多次观察和操作,发现硅棒在生长中发生腐蚀主要发生在前期,前期还原炉内整体温度低主反应中是哪个产盐酸多的热分解反应,在操作中把硅棒温度维持在1120左右加大点进气量4个小时左右就把腐蚀的缝口补上了
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