还原炉内压降

在还原炉的压降计算中遇到如下问题：1由于硅棒生长变粗，导致流道变窄；2当出气口位于底部时，炉内物料返混，导致计算不为单一方向；3同样，由于硅棒生长，使得反应器体积变化，在流量不变情况下，反应物浓度变大；大家有什么高见，望不吝赐教~

回复 1# 明日的记忆
    体积变小，浓度没有变化，只是炉内压力相对变大，但是由于硅棒变粗，沉积速度也加大，可以抵偿由于体积变小炉内压力加大的问题。我说的对否，请讨论

回复 2# zirconium
    我觉得炉内压力应该不会变吧，压缩机估计会调节一下，就是不知道炉内的分子数是不是可以通过状态方程算出来，原来有坛友提过~

楼主单纯说的压降计算。楼上两位没理解到楼猪的意思。

压差一定的话，就是流速的问题了，流速是在变化的。

回复 4# axe_dh
    对啊，我说的就是压降，哥们你有什么高见？

回复 5# 化工人士
    恩，进口流量一边，流速跟这变，我现在不知道用什么公式算压降，主要是有返混，不像一般的管式反应器，算压降的公式也不适用~

回复 7# 明日的记忆
    从自动化角度看，压力是可以自动控制的，不需要根据模型计算。比如以炉内压力为目标值，根据设定压力值，控制进料量，就可以达到压力的稳定。另外请教个问题：反混的概念？

回复 8# zirconium
    我觉得返混就是物料不是单向流动的，比如如果出气口在底部，进气先由底部喷嘴进入炉体，然后反应过后又从底部出去，这不是会发生混合吗，在管式反应器里就没有返混。

回复 3# 明日的记忆
    谢谢你对返混的解释。我想问一下多晶硅还原炉有管式反应器吗，如果采用管式反应器还原炉散热问题难以解决吧（首先说我是外行，就是为了探讨）