还原炉反应问题

各位好，关于还原炉的热分解反应中三氯氢硅裂解为四氯化硅和氢气，这个反应是吸热反应还是放热反应？

4SiHCL3==3SiCL4+Si+2H2
三氯氢硅的气相摩尔生产焓-496.22，四氯化硅的气相摩尔生成焓是-622.75
（物质生成焓数据来至NIST），
计算得到反应焓变116.63，体系能量增加，是吸热反应。
仅供参考，不知道对不对，希望高人指点

4SiHCL3==3SiCL4+Si+2H2
三氯氢硅的气相摩尔生产焓-496.22，四氯化硅的气相摩尔生成焓是-622.75
（物质生 ...
ts0804030 发表于 2011-12-5 19:36

                                
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你还应该考虑Si和H2的焓变


此反应应该为微放热反应。

回复 3# yizhuxuan
    单质化学反应中焓变为零吧

回复  yizhuxuan
    单质化学反应中焓变为零吧
ts0804030 发表于 2011-12-5 22:03

                                
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一种物质从无到有，怎么能焓变为零呢。

还有要考虑到温度。不是标准状态。要用热容来积分算的

回复 3# yizhuxuan
   支持版主的见解，不过在还原反应中还有一个反应SIHCL3+H2--SI+HCL，消耗的H2比裂解生产的多得多,按照物料守恒把方程配平根据焓变计算是放热反应。

在一个反应过程中参与或生成的物质的函变都要计算，才能得到反应方程式的总函变，当然要计算还原炉内是放出反应热还是吸收热那还得综合考虑两个乃至几个反应方程式的热合还是热差问题！