氩过冷器通道堵塞分析及处理

氩过冷器通道堵塞分析及处理
殷建国，王林章（北京首钢氧气厂运行一车间，北京市石景山区
100041） 摘要：详细介绍了氩过冷器通道堵塞引起精氩塔下部冷凝蒸发器的底部液位持续增高的现象及过程，分析了氩过冷器通道堵塞的原因，最后，介绍了解决故障的方法。关键词： 氩净化系统, 氩过冷器, 通道, 堵塞, 原因, 处理, 中图分类号：TB657.9
文献标识码:B

30000m3/h空分装置是首钢氧气厂80年代末引进的林德公司的设备，采用了全低压分子筛增压膨胀全提取流程，1988年3月投产，运行基本稳定。
1、氩净化系统的工作原理
本套究分装置氩气的净化，采用加氢除氧工艺。为了清除反应炉后粗氩中的水分，设置了一组分子筛干燥器，其后有一个水分分析表（AI4302
2、故障过程
2001年某日上午10时30分左右，当班操作工发现精氩塔下部冷凝蒸发器的底部液位LIC4121持续增高。当时液位设定值是50%（正常工作时投自动），过程值（实际液位）却达到了80%左右，也就是LV4121阀已经全部打开。此时LV4122阀已全关，不能将液氩输送出去，但其液位LIC4122仍然下降到了30%左右。而精氩塔的过量氢回收压力PIC4312的开度到了50%。为些，当班操作工将阀门PV4312的开度由50%关到10%，但压力变化不大，最后不得不停止精氩的制取。

3、故障现象分析
为了确定故障的症结所在，为正确解决问题提供保障，对与精氩塔及氩净化系统有关的阀门和工艺参数等作了检查，阀门动作都是正常的，采集的部分工艺参数见表1。
正常值
阀门开度
故障值
阀门开度
LIC4121=50%
PIC4312=2.0bar
TI4121=－173℃
TI4124=－172℃
PIC4303=2.5bar
HIC4303=20%～40%
LV4121=40%～50%
PV4312=48%
PV4303=0%
LIC4121=85%
PIC4312=0.7bar
TI4121=－176℃
TI4124=－174℃
PIC4303=2.51bar
HIC4303=30%
LV4121=10%
PV4312=10%
PV4303=50%