下塔液空波动过大

21000的空分，下塔液空波动过大（400-1200），在波动过程中，V1手动逐渐开打至75%但仍然毫无效果，直至显示nona，同时主冷液面急剧下降到无。我们做过调整，一直在不断提高C3液面至650-700。在分子筛切换时也有过V1小波动的状况，但都通过调整V1使工况稳定了。什么缘故？

C3液面指的是哪里？能不能介绍一下流程，感觉楼主没有说清楚。