齐鲁旭化成NCH型电槽运行总结

本帖最后由 sunjl1981 于 2013-1-6 20:42 编辑
文章来源：2007年中国氯碱技术年会论文
文章名称：NCH型旭化成电解槽运行情况总结
作者：刘兆强，李明，王尚庚（中国石化齐鲁股份有限公司氯碱厂，山东 淄博 255411）
摘  要：介绍了20万t/a离子膜烧碱装置电槽两种离子膜的运行状况，对两种离子膜的实际运行情况进行了分析对比，初步探讨了离子膜电槽运行的影响因素，提出了优化措施。
关键词：离子膜；酸度；游离氯；直流电耗
简介：齐鲁公司氯碱厂20万t/a离子膜烧碱装置于2004年10月10日建成投产。该装置二次盐水、电解及淡盐水脱氯工序引进日本旭化成公司的工艺技术，采用自然循环高电流密度 （ML-32NCH）复极槽。离子膜采用1台杜邦膜N982（R2230A）和9台旭化成膜F4401（R2230B-J），在本装置开车运行的2年多时间里，电槽运行中出现了各种情况的变化，现将电槽开车至今膜的运行情况总结如下。
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[ 本帖最后由 yzhms 于 2008-5-13 11:17 编辑 ]

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