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两个多晶硅设备问题

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发表于 2010-4-14 15:24:21 | 显示全部楼层 |阅读模式
本帖最后由 langjihongchen 于 2010-4-14 15:29 编辑
有两道题不会做,望坛友帮助解决:
1、再生氢压机吸气压力波动的原因?
2、吸附柱温度加不上去的原因?
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发表于 2010-4-15 09:02:22 | 显示全部楼层
压缩机进口缓冲罐小了吧,要么压缩机循环管路阀门调节阀PID参数修改一下
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发表于 2010-4-15 09:06:22 | 显示全部楼层
再生氢压机吸气压力波动:
吸收塔卸载压力,再生的时候压力泄放的太快,你应该调整控制阀的参数
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发表于 2010-4-15 11:30:59 | 显示全部楼层
1:吸附塔泄压速度过快。导致压力波动。
  或者是调整氢气缓冲罐压力的自动调节阀,反馈太慢,或是是太快,根据实际情况调节。
2:再生温度尽量高点。吹扫氢流量尽量大点。
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