三氯氢硅中B、P杂质组分存在具体形态

发表于 2010-8-29 16:10:20

呵呵，我觉得大家说得都有一定道理，杂质含量本来就非常低，工业上除起来更加困难，物性的影响可能没有那么显著。但不容忽视的一个问题是，金属杂质的含量同样非常低，一般对于精馏初始原料来说，金属杂质含量都要比B、P杂质低很多，然而，金属杂质除起来却很容易。我听说过精馏塔塔顶和塔釜中P含量检测相差不大的情况，但从没听说过金属杂质出现过这种情况，一般氯硅烷经过一级精馏除高沸后，金属杂质含量降低都非常明显。所以，我觉得物性的影响还是挺明显的。

发表于 2010-8-30 14:12:35

大家说的都有道理，学习了。

发表于 2010-8-30 14:44:13

各位高手：
目前多晶生产中精馏工序的主要任务是除去三氯氢硅中的B/P，杂质达到0.02个ppb,不知道其它企业的情况如何，目前，我们要做到这一步实在是太难了，有高手进来指导指导！

发表于 2010-8-31 01:11:55

回复 13# LG-2008
杂质达到0.02个ppb,想了解你的检测手段，谢谢

发表于 2010-8-31 09:23:52

学习学习！！！各位高人多多指点！

发表于 2010-8-31 11:30:20

学习了，谢谢！

发表于 2010-8-31 16:30:51

除了精馏的办法除去B,P外,有没有采用吸附的办法

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