等离子加热技术用于多晶硅行业

高压需要做好绝缘，否则存在被击穿的危险吧

那个讲座是我们学校校庆时，中科院一个研究员讲的！他的具体研究方向我忘记了，就记得一个应用，他们为浙江一家丝绸公司，做了一台等离子处理的设备，用等离子处理过的丝绸手感变的很好！好像是等离子光源还是什么方向！
非常感谢您的解答！谢谢！

楼主是实验室做的还是实际生产中已经应用了？

我们公司一直用等离子加热，正常情况下10分钟左右就能使所有硅芯击穿，使用的介质是氮气，等离子功率输出70％左右，这方法用起没有出过安全问题。

问下，一跟柱子里大概有多少硅，质量。
[ 本帖最后由 bergkamp888 于 2009-2-14 16:50 编辑 ]

回复15楼
我们产的硅棒都是以对为单位,一对硅棒的重量100---200kg,这只是个大概的重量,因为硅棒的重量取决于硅芯的长度和出炉时硅棒的直径以及硅棒生长的致密性等因素.上面的这个重量只是我们这里的数据,不同厂家生产的也有区别的.

我知道等离子体在金属熔融法炼硅中有应用，外文也有报道，日本做这个的比较多，但是等离子体用在钟罩反应器中进行加热，我还是首次听到，楼主能不能交流一下？其实等离子体是可以用在多晶硅工艺中的，以前有过这个想法，但不是还原炉。我的QQ41609950

高压击穿很成熟，但耗电量大。
等离子体在还原炉上应用到是个方向。
现在有没有使用的？还请各位大侠，不吝赐教。

我们一直采用高压击穿，几年前为搞技术革新也试过用等离子加热，用下来两种方式一对比，采用高压击穿比采用等离子有技术成熟，操作简单，速度快等诸多优点。如有哪位用过等离子，请问具体情况？