化工情痴 发表于 2011-11-1 21:20:28

多晶硅版块每日一题11.02

本帖最后由 wangli115 于 2011-11-1 21:22 编辑
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3.所有回答必须是在北京时间11月02日有效时间内完成，谢谢您的参与。
4.正确答案将在11月3日正式公布。
    今日题目为选择题，每题正确可获得2财富奖励，全部回答正确可得6财富，参与回答即可获得1财富鼓励，具体题目如下:
1、在N型半导体中，（    ）是多数载流子。
（A）原子（B） 分子 （C）离子 （D） 电子
2、多晶硅中的受主杂质主要是（   ）。
（A） H2    （B）Ca（C）p（D）B
3、氢气与氯气燃烧合成的HCl中，含有少量H2O，采取（   ）方法脱水较好。
（A）硅胶吸附（B） 加热挥发
（C） 冷冻脱水 （D）浓硫酸洗涤吸收

dongjiang1001 发表于 2011-11-1 21:38:17

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gzy2050 发表于 2011-11-1 21:41:18

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linweihua6 发表于 2011-11-1 21:55:24

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jlszhoujidai 发表于 2011-11-1 22:37:03

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dyh633 发表于 2011-11-1 22:53:15

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设备小将 发表于 2011-11-1 23:11:47

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renzongkai 发表于 2011-11-2 05:34:34

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asusp535tm 发表于 2011-11-2 07:07:49

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wangzhihou 发表于 2011-11-2 07:45:54

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