yizhuxuan 发表于 2011-11-8 22:51:56

多晶硅工艺【每日一题】2011.11.09

本帖最后由 yizhuxuan 于 2011-11-13 22:53 编辑
今日【每日一题】关于还原车间：

1.以下不合理的还原炉底盘处理方式是。

A 吸尘   B N2吹扫C 无水乙醇擦拭D 水洗

备注：

1. 请大家隐藏回复！隐藏方法：https://bbs.hcbbs.com/thread-492556-1-1.html


2. 参与者必有2点财富奖励，回答正确即有5点财富奖励；


3. 不设置回复可见作删除处理，回复后请勿编辑，编辑后只能获得2点财富奖励；


4. 作出简要分析的，可酌情加分！


5. 答题截止时间至当天夜里12点，敬请关注。




答案D

zeng46563 发表于 2011-11-8 22:59:39

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gzy2050 发表于 2011-11-8 23:51:04

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等候者 发表于 2011-11-9 02:18:38

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asusp535tm 发表于 2011-11-9 06:23:12

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qw123456789 发表于 2011-11-9 06:35:45

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chenyong455 发表于 2011-11-9 07:04:43

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linweihua6 发表于 2011-11-9 07:04:49

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zbx 发表于 2011-11-9 07:07:57

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ray1513 发表于 2011-11-9 07:28:02

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