shamoshui 发表于 2009-5-19 10:48:26

三氯氢硅合成氯气要求

我公司离子膜烧碱配套三氯氢硅,使用的是氯气泵后直接供氯合成氯化氢,但运行过程中HCl含水量过高,仅靠深冷脱水不能达到要求,请问如何改造?不想使用液氯钢瓶供氯,太麻烦。

feibiao101 发表于 2009-5-19 13:59:34

是氯气中含水量大,导致氯化氢含水量大吗?如果是,需想法干燥氯气。

fan51288 发表于 2009-5-19 16:20:19

你先分析确认是因为氯气含水还是氢气含水高,若是增加干燥设备,若正常就在合成炉后加。

shamoshui 发表于 2009-5-20 08:28:45

主要是氯气中含氧高,氯气中含氧应该没有氯气除氧仪吧,可是氯化氢深冷脱水又达不到预期目的

zhouqm 发表于 2009-5-21 11:47:09

HCL合成后可用四氯化硅脱水

wqing123456 发表于 2009-5-21 17:40:43

可以考虑在合成氯化氢过后,对氯化氢进行干燥,现在国内有这样的厂家的,

goldjyb 发表于 2009-6-16 15:18:56

5楼可以具体点吗,可以脱到多少ppm

tao8686886008 发表于 2009-6-16 21:01:22

纯度至少在99.9%以上吧

wqing123456 发表于 2009-6-18 17:53:01

我们现在用的这套设备出水后,水分含量在50ppm一下,

wuhao3690 发表于 2009-6-20 16:59:53

可以对合成后的氯化氢脱水啊
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