rammstein 发表于 2009-11-20 11:04:45

多晶硅精馏工艺 懂的进来聊聊

多晶硅精馏工艺过程中，替代三氯氢硅浓度的间接质量指标是什么？温度还是其他？是不是双温差控制系统？

feibiao101 发表于 2009-11-21 09:58:31

对三氯氢硅纯度的判定温度和压力就可以了，对杂质含量就很难说了，毕竟是微量，最终还得靠提纯塔的稳定操作。

XNHHSDGM 发表于 2009-11-22 10:36:20

根据温度压力变化范围检测一下三氯氢硅的浓度，最后确定一个质量比较稳定的温度压力变化范围，以后就可以根据这个范围来操作了。

zjiris 发表于 2009-11-24 11:28:46

监控好原料杂质含量，稳定精馏塔压力温度就可以了
重要的是稳定操作，毕竟是微量杂质，有波动也在温度压力上反应不出来

benzene 发表于 2009-12-15 20:55:41

微量杂质的含量控制在多少？

benzene 发表于 2009-12-15 20:56:57

对于多晶硅，杂质含量就是致命的问题，所以，精馏工艺的控制仅仅靠温度和压力如何能判断杂质的含量呢？
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