还原炉操作压力对硅沉积的影响

清冷紫玉 发表于 2011-12-12 22:03:45

大家讨论一下，还原炉的压力对硅沉积速率的变化。

beijiguang 发表于 2011-12-13 15:21:22

实验证明有利于硅的沉积。

zhangweicheng 发表于 2011-12-13 17:22:36

没有确定的数学关系式，一般来说，压力提高有利于沉积。
但要充分考虑到工艺条件，如：料比，还原炉结构，通气量等。

清冷紫玉 发表于 2011-12-14 15:37:38

请问大侠，如何计算0.5MPA操作压力，喷速应该为多少呢？

luoye888 发表于 2011-12-15 10:08:21

z这个问题只要是从氯硅烷的分子动力学和热力学来说，压力大沉积速率高，压力大，主要是分子间距小，单位空间的气体密度高。

dclpl 发表于 2011-12-15 10:58:56

提高还原炉的操作压力，可以增加硅的沉积速率，但压力过高会破坏反应气体的流场，造成一次转换率过低，因此，要找寻两者之间的最佳点。

飞翔的流体 发表于 2011-12-15 17:04:13

建议去看看你们还原炉气体流场、温度、压力各方面的设计值，那些设备生产厂家或设计单位会在之前就给你们设定了相互对应的个参数，只要将几个参数控制好，你的硅沉积速度就能达到最佳值！

yizhuxuan 发表于 2011-12-15 17:05:58

建议去看看你们还原炉气体流场、温度、压力各方面的设计值，那些设备生产厂家或设计单位会在之前就给你们设 ...
飞翔的流体发表于 2011-12-15 17:04

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这个参数一般区间会比较大，最佳值还是要自己来调的。

飞翔的流体 发表于 2011-12-15 17:04:00

这就是为什么还原生产必须要熟练工的原因，其实道理大家都懂，但是实际调试过程就要实际经验了！

yizhuxuan 发表于 2011-12-15 17:07:45

这就是为什么还原生产必须要熟练工的原因，其实道理大家都懂，但是实际调试过程就要实际经验了！
飞翔的流体发表于 2011-12-15 17:07

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对的，这个时候，工作经验的优势就显现出来了。

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