langjihongchen 发表于 2010-4-14 15:24:21

两个多晶硅设备问题

本帖最后由 langjihongchen 于 2010-4-14 15:29 编辑
有两道题不会做，望坛友帮助解决：
1、再生氢压机吸气压力波动的原因？
2、吸附柱温度加不上去的原因？

caipengpeng 发表于 2010-4-15 09:02:22

压缩机进口缓冲罐小了吧，要么压缩机循环管路阀门调节阀PID参数修改一下

wangqizhi 发表于 2010-4-15 09:06:22

再生氢压机吸气压力波动:
吸收塔卸载压力，再生的时候压力泄放的太快，你应该调整控制阀的参数

家和万事兴 发表于 2010-4-15 11:30:59

1：吸附塔泄压速度过快。导致压力波动。
或者是调整氢气缓冲罐压力的自动调节阀，反馈太慢，或是是太快，根据实际情况调节。
2：再生温度尽量高点。吹扫氢流量尽量大点。
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