还原炉内发生的反应是吸热反应还是放热反应
各位大哥能不能回答小弟一下,还原炉内发生的反应是吸热还是放热反应?还原炉内发生的反应主要有:SIHCL3+H2=SI+3HCL
4SIHCL=3SI+SICL4+2H2
大家都知道通过计算焓变可以判断是放热还是吸热反应。但是我查不到相关数据,请知道的坛友不吝赐教
因为Si+3HCl=SiHCl3+H2+209.34Kj/mol 是放热反应
所以SIHCL3+H2=SI+3HCL是吸热反应! 多谢楼上的老兄了,根据我研究我们的化验结果,我们的还原尾气中HCL的含量很低,而SICL4的含量很高,从此可以判断主要发生的反应是第二个反应。那么第二个反应是放热还是吸热呢?是不是分解反应都是吸热反应呢? 大多数的反应其实是TCS裂解,放热的...所以STC多 hcl很少说明你的还原温度控制比较低 吸热反应,如果是放热反应的话,那等反应启动了,就不要再通入高压电流了。 楼主也太不仔细了点吧,三氯氢硅怎么变成了SiHCl
直接导致你的系数出问题,这个反应是吸热反应 肯定是吸热反应了,和合成三氯氢硅是互逆的过程。 7# bergkamp888 都是吸热反应。。。。。。。。。。。。。 是吸热反应,与三氯氢硅合成互为逆反应。
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