XNHHSDGM 发表于 2010-4-26 16:49:58

取样器的清洗

多晶硅生产过程中三氯氢硅和四氯化硅取样分析后，对取样器的清洗非常麻烦，请教同仁应该如何清洗啊？

海硅哥哥 发表于 2010-4-27 12:09:53

先用氮气吹干净啊，在用纯水冲洗，嘿嘿。。。。。。没洗过，只是个人建议。。。。。。。。。。

鹧鸪汀 发表于 2010-6-14 15:26:46

依次用氮气、水、10%的氢氧化钠、水、高纯水、高纯氮气清洗吹扫。
也可以设计一个清洗吹扫装置。

activator 发表于 2010-6-18 10:41:31

一般都是使用密闭的取样器的啊，最好不要拿水清洗，如果有残余的硅烷的话会剧烈反应的。可以先用氮气吹扫，然后用负压装置吹扫，然后就是直接密闭起来就好了！取样瓶都*定使用的，放样完就可以密封起来。

lyb9078124 发表于 2010-8-12 13:00:40

只能说那个做取样器的很不专业，现在取样器的技术都很成熟了，取样完毕直接吹扫，根本不用再清洗的。
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