gysmlhd 发表于 2011-3-22 07:55:17

谢谢了,好好学习了

king70868 发表于 2011-3-22 08:39:19

谢谢楼主,资料很好呀。但是,我有一个疑问:现在设计好像不用内旋风,除了降低消耗其它没有好处,请楼主讲解。

kanape 发表于 2011-3-22 08:58:16

先顶再下,谢谢分享

zhangweicheng 发表于 2011-3-22 11:05:54

回复 13# king70868
    是这样,这只是别人的专利,只是给各位坛友提供一个思路,希望抛砖引玉,共同学习共同提高

我本-善良 发表于 2011-3-22 13:39:33

看过了,是比较接近实际,和某设计院故作神秘兮兮的氯氢化工艺差不多。谢谢哥哥啊!
不过,小人本的企业,不支持!
小日本良心大大地坏!

我本-善良 发表于 2011-3-22 13:39:39

看过了,是比较接近实际,和某设计院故作神秘兮兮的氯氢化工艺差不多。谢谢哥哥啊!
不过,小人本的企业,不支持!
小日本良心大大地坏!

wlw6507 发表于 2011-4-14 17:35:30

不错嘛,不过没有详细点的参数

shijiezuqiu2011 发表于 2011-4-14 21:05:55

好东西啊 谢谢分享..........

zhuangjz 发表于 2011-4-15 10:57:42

还不错,希望楼主继续分享资料,谢谢

dengjiebo 发表于 2011-4-21 10:17:30

楼主实在是多晶硅行业的典范,能够把一些东西共享出来,值得学习。
页: 1 [2]
查看完整版本: 最接近实际生产工艺和设备的冷氢化专利