无定形硅产生的原因是什么?
产生原因:1.氢气和三氯氢硅配比小
2.进炉混合气气量过大
3.反应温度过高
4.原料中杂质过多 请问是单一方面的影响,还是共同作用下的结果呢? 共同的结果,最重要是看到实际情况 回复 2# liuhuan889396
无定硅是温度高造成的??? 是其中一种或几种因素作用造成的 回复 2# liuhuan889396
不要误导楼主啊,产生无定形硅的主要原因 1:硅棒表面温度太低 2:气相温度过高 3:氢气太少。
第一种:常见于十二对棒的还原炉运行到后期,有的厂家将反应时间设置的太长,硅棒长得太粗,为了防止硅棒破裂,一般将后期反应温度设置的较低
第二种:常见于二十对及其以上的还原炉,还原大,温场分布不均,尤其内环四周都是硅棒,到了后期,热辐射强烈,只要气相温度局部超过了570℃,TCS开始分解产生硅粉,这种情况无法避免。
第三种:这种情况仅见于由于误操作时,氢气远远低于正常值时才会发生,一般的调整配比(从二调到五)都不会发生。 之前我已经讲过无定形硅是其中一种或几种因素作用造成的,如硅棒表面温度高,原料纯度不够(例如轻组分含量较高),会造成TCS和DCS在硅棒表面剧烈反应,甚至在空间直接分解,这也是无定形硅产生的一种情况 谢谢大家的回答!
无定形硅产生的原因是什么?如何避免?
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