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三氯氢硅还原工序工艺

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发表于 2009-1-21 15:16:12 | 显示全部楼层 |阅读模式
三氯氢硅氢还原工艺简介
1. 合成氯化氢
氯气和氢气在合成塔进行合成的,压力为0.3-0.5mpa,温度区间在290-330。收率最高。
2.三氯氢硅合成提纯和回收
硅粉干燥后加入三氯氢硅合成炉,和氯化氢反应生成三氯氢硅,在经干法和湿法除尘,除去粉尘及高氯硅烷后,进入尾气回收装置,尾气经加压,冷凝,分离,回收氢气和氯化氢。
氯硅烷先进行粗馏湿法去硼,在经过连续精馏。在提纯工序过程中产生的高低沸点物回收利用,四氯化硅送氢化工序。
3氢气
从氢气站送来的高纯氢气。
4氢还原
高纯氢气和精馏提纯后的三氯氢硅,按一定的摩尔配比进入还原炉,在硅芯发热体表面上沉积生长多晶硅,得到多晶硅产品。
还原炉尾气经尾气回收装置得到三氯氢硅和四氯化硅混合液,氯化氢气体以及氢气,三氯氢硅和四氯化硅混合液送精馏分离。
氯化氢气体送三氯氢硅合成工序,氢气返回还原炉生产多晶硅。回收得到的三氯氢硅和四氯化硅混合液经精馏提纯后得到的三氯氢硅送还原炉生产多晶硅,四氯化硅送氢化工序。
三氯氢硅粗馏,干法回收精馏和氢化粗馏得到的四氯化硅送四氯化硅氢化系统。四氯化硅在氢气的作用下转化成三氯氢硅,得到氢化产品。
氢化产品经分离提纯后,得到三氯氢硅,四氯化硅和低沸物。三氯氢硅送精馏,四氯化硅返回氢化工序,低沸物回收利用。
                                              主要工艺工段和工序
1氯化氢合成
2氯化氢硅粉法合成三氯氢硅
3汽气混合物除尘
4合成三氯氢硅产品的汽气混合物的冷凝和再生
5氯硅烷的分离和提纯
6氢还原
7四氯化硅氢化为三氯氢硅
8汽气混合物再生
9原料,中间产物和制成品的分析实验室
10成品准备和包装
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