无离子水中的杂质对离子膜烧碱装置的影响

本帖最后由 sunjl1981 于 2013-1-6 23:09 编辑
无离子水中的杂质对离子膜烧碱装置的影响
盐水中的杂质对离子膜烧碱装置造成的影响已经为大家所熟知，在离子膜烧碱装置运行过程中，需要向烧碱系统中加入无离子水，
现就关于无离子水中的杂质对离子膜烧碱装置可能造成的影响展开讨论。

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没人回应，谈谈个人想法，权作抛砖引玉：
1、很显然，首先影响产品质量；
2、金属杂质高可能导致离子在阴极放电，影响阴极活性；
3、对离子膜应该也有影响，毕竟杂质元素与膜上的磺酸根可能结合。

电导在5以下的纯水，应该是没有什么影响的

在离子膜烧碱装置运行过程中，需要向烧碱系统中加入无离子水，关于无离子水中的杂质对离子膜烧碱装置造成的影响也不容忽视， sirsdj讲的很有道理，我再赘述一下：
1、无离子水中的杂质超标，会影响烧碱产品的质量。离子膜烧碱质量要求较高，杂质离子含量要求是ppm级的，无离子水中的杂质超标，会导致烧碱产品中的杂质离子超标；
2、由于电解槽的阴极具有强还原性，无离子水中的金属杂质会在阴极放电被还原，其产物会吸附在阴极上并进行富集，这样会覆盖阴极活性涂层，降低了阴极的活性，使槽电压升高，电流效率下降；
3、无离子水中的杂质超标，金属杂质离子会污染离子膜上羧酸层，与羧酸基结合使其失去活性，使槽电压升高，电流效率下降。
4、我单位无离子水的控制指标是：Ca＋Mg ＜100μg/l 、 SiO2 ＜100μg/l 、 Al ＜20μg/l 、Fe＜50μg/l 、Hg  ＜50μg/l、电导率＜5μs/cm。

在离子膜烧碱工艺中，应该选用怎样的防腐管道和[wiki]设备[/wiki]？